芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、集成ic厂酸碱性工业废气简介
鑫霖环保芯片制做具体步骤中会所产生一大批含酸性废水,最主要的特征于刻蚀、洗、扩撒等工艺技术基本原则。等等废水材料繁琐,常还有下述这些:
氟化物(HF、SiF₄等)
:关键基刻蚀方法,兼具强耐酸性和致癌性。
氯化氢(HCl)
:常考于清洁和刻蚀期间,溶于于水变成偏酸稀硫酸。
浓盐酸雾(H₂SO₄)
:好用于晶圆清晰,有机废气物中包含体积小液滴,易组成酸雾。
氮钝化物(NOx)
:组成部分温度高技术会产生了NOx,有促使性且易变成光耐腐蚀雾气。
以下废气产生不光金属腐蚀设备,还能对室内环境带来嚴重污染问题,所以说必须要通过效率补救能力产生。
二、含酸性工业废气工作问题与要领
(1)除理疑难问题
成分表繁琐
:多种工艺设计造成的烟气的成分地域差异大,需重视性解决。
质量浓度冲击大
:生产的过程中 中排放出物排放出量不稳定可靠,对解决设备的不平衡性让高。
防腐蚀锈蚀性强
:弱酸性气心得被金属腐蚀地埋管和系统,需常用耐被金属腐蚀素材。
排放量基准非常严格
:鑫霖环保芯片厂常见需够满足《大气磅礴造成的有害物质綜合排放出标》(GB 16297-1996)等法律法规请求。
(2)整理指导思想
预处里
:使用自喷塔或干井式降解清掉大颗粒状物和部份弱酸性有害气体。
重要办理
:可用湿式干洗(碱液结合)、吸法(吸附性炭、原子筛)或引燃法(RTO)。
后除理
:除雾安装取除很小液滴,提高认识未环保达标出。
自动化化管理
:时实检测的废气含量,修改进行处理运作以改善有效率。
三、经典之作例案介绍
案例分析1:某亚太心片大公司氟化氢(HF)有机废气治理治理 顶目
废气排放作用
:
注意化学物质:HF(有机废气浓度50-200mg/m³)、氢化物发生器SiF₄
风速:20,000m³/h
温度因素:室温
净化处理情况报告
:
多级喷淋头溶解
:
第1 级应用NaOH溶剂喷洒,清除大地方HF。
第二点级用Ca(OH)₂水溶液进的一步油烟净化器,生产CaF₂沉定。
除雾器
:高氯纶除雾器清除带出液滴。
自功化控住
:pH线上探测,自动的投加药剂确认结合速度。
治理治疗效果
:
HF进行排放溶度<1mg/m³,剔除率>99%。
体统运作安全稳定,运营料工费低。