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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工加工厂属于苏北中北部,关键加工8厘米半导体器件晶圆,每日化工废水排放口出量约800吨。在加工工作中利用很大氢佛酸完成晶圆蚀刻,导至化工废水下氟化物氧化还原电位达到200-300mg/L,远超地方排放口出标淮(10mg/L接下来)。 生活污水物质及来源地 污废水 大部分产自6个流程: 晶圆蚀刻繁琐流程 :含高有机废气浓度氟化物(HF)、氰化钠及一点天价属 药剂学机械性拋光(CMP)废水处理 :含纳米技术级硅颗粒状、生物碳络合剂 设施难以清理污废水 :含异丙醇、挥发酚等有机肥料物 正确处理工艺技术环节 利用"物理化学积淀+混疑积淀+深层吸附"四级工作设备: 四级处置 :加药氯化钙和氢氧化的钙,进行氟化钙积淀,氟化物删去率达85% 中级进行处理 :修改PAC(汇聚氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),我们要除橡胶胶体部分态破坏物 三级视频操作 :实现多导电介质过滤清洁器和可溶性炭离心分离,满水后氟化物氧浓度可靠在8mg/L如下 关键点机也包括:pH半自动调整装置、斜管水解池、板框板框压滤机(厌氧颗粒污泥脱水烘干)。 最终能够效用 好项目程序运行三年期监测大数据大数据表现: 氟化物平衡密度:7.2mg/L(高出国家的标淮) COD除掉率:92% 淤泥含水量率:≤65% 年收购 氟化钙副產品约150吨,控制资原化借助

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